靶材是通过磁控溅射、电子束蒸发或其他类型的镀膜系统(设备)在适当的工艺条件下,溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。
一般靶材主要由靶坯、背板等部分构成,其中,靶坯是高速离子束流轰击的目标材料,属于溅射靶材的重要部分,在溅射镀膜过程中,靶坯被离子撞击后,其表面原子被溅射飞散出来并沉积于基板上制成电子薄膜。
表面处理的目的是满足产品的耐蚀性、耐磨性、装饰或其他特种功能要求。我们比较常用的表面处理方法是,机械打磨,化学处理,表面热处理,喷涂表面,表面处理就是对工件表面进行清洁、清扫、去毛刺、去油污、去氧化皮等。
常用表面处理的工艺有:
真空电镀、电镀工艺、阳极氧化、电解抛光、移印工艺、镀锌工艺、粉末喷涂、水转印、丝网印刷、电泳等。
离子镀膜与电镀膜相比较,主要有以下几大优点:
1.离子镀膜致密,耐蚀性好,
2.镀膜中不含镍或镉元素,对人体无害,更不引起癌变。
3.镀膜附着性好,而电镀膜与基材之间是没有过渡层的。
4.离子镀膜过程均在真空条件下进行,无三废排放,不污染环境,更不需三废治理和投资。
电镀:电化学方法,应用范围比较广,可以是装饰性电镀(家电面板及配件等)、功能性电镀(电子行业的焊接、接触)、防腐性电镀(常见的镀锌)。实用的材料大多为金属,ABS塑料等也常被电镀处理。
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